宿遷優(yōu)質(zhì)霧化銅粉廠家
發(fā)布時間:2024-07-19 00:30:10宿遷優(yōu)質(zhì)霧化銅粉廠家
選取市場采購的光亮銅米和雜銅米兩種原料,為直徑1.5mm以內(nèi)、長5mm以下不等顆粒,雜銅米為直徑0.2~0.3mm、長2~3mm細(xì)絲,外觀呈紫銅光澤、潔凈、流動性好;雜銅米呈紫銅光澤、易堆積,有塑料、鐵絲以及不明雜物。兩種銅米含銅都達(dá)到99%以上。
宿遷優(yōu)質(zhì)霧化銅粉廠家
成功利用PCB邊角料生產(chǎn)出片狀,如圖5所示。由圖5(b)的SEM檢測結(jié)果可見,片狀銅粉長度約為10μm,而厚度已接近納米量級。在銅粉表面可以看到很多解理狀的平面和裂紋,且很多裂紋已經(jīng)深入到顆粒內(nèi)部,呈現(xiàn)明顯的脆性斷裂形貌,這表明銅粉中確實發(fā)生了顯著的氫脆。根據(jù)需求還可對銅粉進(jìn)一步研磨,以得到更精細(xì)的顆粒。經(jīng)檢測整個過程銅的回收率達(dá)到99%,純度達(dá)到99.6%(若需提高純度,可對原料進(jìn)行嚴(yán)格挑選,減少其中的雜質(zhì)含量)。
宿遷優(yōu)質(zhì)霧化銅粉廠家
采用高壓水霧化制取,真空干燥后采用動態(tài)氧化/還原處理對銅粉表面進(jìn)行改性,降低粉末松裝密度。水霧化銅粉的氧化是表面改性的關(guān)鍵,靜態(tài)氧化速度慢,粉末易結(jié)塊,工藝過程容易控制,動態(tài)氧化可增大粉末氧化接觸面積,氧化速度快,粉末結(jié)塊程度輕,但工藝過程較難控制。表1為采用動態(tài)氧化/還原處理法對各種不同氧化還原工藝處理后銅粉的性能對比。
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以電解銅為原料(其純度不低于99.95%),采用水霧化工藝生產(chǎn),然后將水霧化銅粉在一定溫度、一定時間內(nèi)進(jìn)行氧化。通過氧化使水霧化銅粉加以表面改性而獲得的海綿狀銅粉,其松裝密度明顯降低,流動性稍變差。在氧化過程中,氧化粉末有結(jié)塊現(xiàn)象,因此需要破碎。在氫氣中還原后粉末結(jié)成塊狀,易破碎,還原后粉末氧含量不大于0.2%(質(zhì)量分?jǐn)?shù)),表明還原充分。由于不同用戶對;的粒度和松裝密度要求不同,為了保證產(chǎn)品性能穩(wěn)定,還原后的粉末需進(jìn)行分級,然后根據(jù)使用的不同要求進(jìn)行合批包裝后即成成品