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汕頭優(yōu)質(zhì)超細(xì)銅粉廠家

發(fā)布時(shí)間:2022-01-08 00:37:41
汕頭優(yōu)質(zhì)超細(xì)銅粉廠家

汕頭優(yōu)質(zhì)超細(xì)銅粉廠家

成功利用PCB邊角料生產(chǎn)出片狀,如圖5所示。由圖5(b)的SEM檢測(cè)結(jié)果可見(jiàn),片狀銅粉長(zhǎng)度約為10μm,而厚度已接近納米量級(jí)。在銅粉表面可以看到很多解理狀的平面和裂紋,且很多裂紋已經(jīng)深入到顆粒內(nèi)部,呈現(xiàn)明顯的脆性斷裂形貌,這表明銅粉中確實(shí)發(fā)生了顯著的氫脆。根據(jù)需求還可對(duì)銅粉進(jìn)一步研磨,以得到更精細(xì)的顆粒。經(jīng)檢測(cè)整個(gè)過(guò)程銅的回收率達(dá)到99%,純度達(dá)到99.6%(若需提高純度,可對(duì)原料進(jìn)行嚴(yán)格挑選,減少其中的雜質(zhì)含量)。

汕頭優(yōu)質(zhì)超細(xì)銅粉廠家

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PCB邊角料/廢細(xì)漆包線所含銅材純度高且尺寸小,適于回收。本文提出的熱解熔析氫脆法能將熱解、熔析和氫脆等工藝有機(jī)結(jié)合,通過(guò)熱解分離出廢棄物中的有機(jī)質(zhì),熔析去除金屬雜質(zhì),同時(shí)利用熱解產(chǎn)生的氫使銅發(fā)生氫脆,后經(jīng)破碎和球磨即可得到。與現(xiàn)有的處理方法相比,該方法具有工藝簡(jiǎn)捷、完全回收、節(jié)能環(huán)保、效益巨大等優(yōu)點(diǎn)?;诖朔椒òl(fā)展出來(lái)的試驗(yàn)性生產(chǎn)系統(tǒng)成功實(shí)現(xiàn)生產(chǎn),且所有指標(biāo)均達(dá)到設(shè)計(jì)標(biāo)準(zhǔn),再次驗(yàn)證了該方法的可行性。

汕頭優(yōu)質(zhì)超細(xì)銅粉廠家

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以電解銅為原料(其純度不低于99.95%),采用水霧化工藝生產(chǎn),然后將水霧化銅粉在一定溫度、一定時(shí)間內(nèi)進(jìn)行氧化。通過(guò)氧化使水霧化銅粉加以表面改性而獲得的海綿狀銅粉,其松裝密度明顯降低,流動(dòng)性稍變差。在氧化過(guò)程中,氧化粉末有結(jié)塊現(xiàn)象,因此需要破碎。在氫氣中還原后粉末結(jié)成塊狀,易破碎,還原后粉末氧含量不大于0.2%(質(zhì)量分?jǐn)?shù)),表明還原充分。由于不同用戶對(duì);的粒度和松裝密度要求不同,為了保證產(chǎn)品性能穩(wěn)定,還原后的粉末需進(jìn)行分級(jí),然后根據(jù)使用的不同要求進(jìn)行合批包裝后即成成品

汕頭優(yōu)質(zhì)超細(xì)銅粉廠家

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導(dǎo)電涂料是伴隨著科學(xué)技術(shù)的進(jìn)步而迅速發(fā)展的一種功能涂料,目前其主要填料有碳系、銀系、銅系和鎳系及復(fù)合系等。作為電磁波屏蔽用涂料中的導(dǎo)電填料,以電導(dǎo)率高,價(jià)格相對(duì)便宜,材料易得,不存在銀粉在涂層中發(fā)生“銀遷移”而影響涂層性能等優(yōu)點(diǎn)倍受青睞。容易氧化,且其氧化物電導(dǎo)率低,造成涂層的電導(dǎo)率下降,所以低價(jià)格、耐金屬遷移的銅粉復(fù)合導(dǎo)電涂料的研究和開(kāi)發(fā)越來(lái)越受到重視。

汕頭優(yōu)質(zhì)超細(xì)銅粉廠家

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末冶金摩擦材料主要是由基體銅、摩擦組元、潤(rùn)滑組元等制備的金屬基復(fù)合材料,其中作為基體相的Cu粉類型對(duì)摩擦材料的綜合性能具有顯著影響。王曄等分別采用電解Cu粉、氧化鋁彌散強(qiáng)化Cu粉和Fe-Co-Cu預(yù)合金化Cu粉為基體,采用粉末冶金工藝制備銅基摩擦材料,發(fā)現(xiàn)分散在中的氧化鋁陶瓷顆粒起到穩(wěn)定摩擦和增大摩擦因數(shù)的作用,因此該材料表現(xiàn)出良好的摩擦穩(wěn)定性,然而,脫落后的硬質(zhì)顆粒增加了材料的磨損量;Fe-Co復(fù)合強(qiáng)化的銅基材料由于穩(wěn)定的氧化膜存在,使得材料呈現(xiàn)出較小且穩(wěn)定的磨損量。

汕頭優(yōu)質(zhì)超細(xì)銅粉廠家

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自然環(huán)境中氧化變色,遵循大氣腐蝕規(guī)律。表面活性大,極易吸附大氣中的水和氧,而正是水和氧是引起金屬腐蝕的重要原因。氧化首先是表面生成薄層氧化物膜(Cu20),氧原子擴(kuò)散通過(guò)此氧化物膜與膜內(nèi)銅原子繼續(xù)反應(yīng),氧化物膜內(nèi)層形成Cu20外層形成Cu0,并隨反應(yīng)進(jìn)行氧化物膜增厚。